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由氣氛分析系統(tǒng)、過程控制系統(tǒng)和流量控制模塊組成的保護(hù)氣氛退火控制系統(tǒng)，能提供先進(jìn)智能化的毫伏值或PF值控制，可為客戶提供退火工藝的全自動(dòng)控制系統(tǒng)解決方案。特別適用于井式爐、罩式爐、STC爐等爐型。

氣氛分析模塊

l 專為退火爐設(shè)計(jì)的SPD低溫直插式氧探頭，采用特殊的氧化鋯陶瓷做敏感元件，在500℃以上即可顯示爐內(nèi)氧毫伏值，可幾乎適用于所有的退火氣氛

l 紅外分析模塊適用于吸熱式或放熱式氣氛的CO和CO2測量，并提供PF值的計(jì)算模塊

l 可選配一體式低溫氧探頭，用于排空階段爐內(nèi)氧含量的測量，節(jié)約N2使用量的同時(shí)縮短工藝時(shí)間，提高設(shè)備利用率

流量控制模塊

l N2智能流量控制器

l RX氣智能流量控制器

l CH4或C3H8智能流量控制器

過程控制模塊

l 基于MCGS觸摸屏開發(fā)的集監(jiān)視、控制和記錄為一體的退火通用控制器，能夠程序化地實(shí)現(xiàn)整個(gè)退火工藝的溫度-流量-PF值/毫伏值全自動(dòng)控制過程。

特點(diǎn)

l 精確的流量控制±2.5%F.S.

l 精確的PF值控制±5

l 可節(jié)約工藝氣體的消耗量